如何防護 | 溶劑電解液提供了解決這個難題的方法。它們在許多離散點侵蝕阻擋層,阻擋層在這些侵蝕點下面連續重新形成,恢復對應于施加電位的薄膜厚度,留下孔狀的覆蓋物,改善了薄膜的結構。
孔結構是規整的,在薄膜的外側部分強加了蜂窩圖案,按計劃出現緊密排列的六邊形陣列,其孔壁的厚度與阻擋層大致相同。因此,薄膜的厚度與非溶劑電解液的電位無關,但與時間相關。用作防護涂層的薄膜需要足夠厚,可在12~60V電位范圍內不到1h長成。
漫反射電子衍射圖案表明,新形成氧化物的結構缺乏長程有序,陽極氧化后,孔狀薄膜可在沸水或水蒸氣中被密封,從而占據了額外足夠的體積來消除孔隙率。
彩色陽極陽極氧化處理工藝條件有哪些?
陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源,其溶液種類也較多,以采用硫酸硬質陽極化處理較普遍,采用硫酸硬質陽極氧化法時,應考慮影響硬質氧化氧化膜層的各因素。
1、硫酸氧化處理的濃度:常采用200-250 g/L,槽液的相對密度(室溫下)為1.12-1.15。
2、水:水是硬質陽極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開水,而不用自來水,因為自來水中含有氯離子,當Cl- >1%時,其制件在氧化過程中就會腐蝕,并出現白斑。
5、初始電壓與處理時間:硬質陽極氧化處理的初始電壓與時間對氧化膜質量的影響也是很大的。初始電壓過大,會導致電流的增加,焦耳熱和生成熱劇增,促使溶解速度猛增,氧化膜則軟,無光澤,起粉,不耐磨。
6、對于氧化處理時間:一般是隨著氧化處理時間的延長,氧化膜厚度增加,但到一定時間后,若不增加外加電壓,氧化膜實際不增加。如果繼續延長時間,則氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化處理時間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。
7、硬質氧化處理溶液的攪拌:攪拌速度大小與氧化膜的生成速度(氧化膜質量)有關。
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